【半導体】SEMIレポート、2018年シリコン再生ウェーハ市場は2年連続の高成長を記録

　SEMIは、5月13日（米国時間）に発行した2018年シリコン再生ウェーハレポートで、2018年のシリコン再生ウェーハ市場が過去最高量のウェーハを再生した結果、前年比19％増の6億300万ドルとなり、2年連続*で高成長を記録したことを明らかにした。2021年には6億3,300万ドルとなることが予測されている。再生シリコンウェーハ市場は2007年のピーク時には、7億300万ドルを記録している。
　地域別では、大口径（200mmおよび300mm）ウェーハの再生能力の多くを保有する日本のサプライヤーが引き続き最大のシェアを占めている。ただし、2018年の日本企業の大口径ウェーハの再生能力シェアは前年から2％減少し、53％となっている。アジア太平洋地域のサプライヤーの大口径ウェーハ再生能力シェアは、2017年の30％から31％に増加した。欧州・北米のサプライヤーの大口径ウェーハ再生能力は16％の水準を維持している。世界全体では、大口径ウェーハの再生能力は3％増加した。
　SEMIは現在22のシリコン再生ウェーハサプライヤーをトラックしている。内訳は日本が9、アジア太平洋は7、北米・欧州は6。2018年のレポートには中国の200mmサプライヤーであるAdvanced Silicon Technologyが、また2017年のレポートには韓国の300mmサプライヤーであるAdvanced Energy Technology Solutionがそれぞれ追加された。
　今回のリリースで引用した「シリコン再生ウェーハレポート」では、2018年の半導体市場における再生シリコンウェーハの詳細情報（価格、生産能力を含む）と2021年までの予測がまとめられている。対象とする市場は、米国、日本、欧州、韓国、台湾、中国、およびその他地域（ROW）。同レポートには、半導体製造装置およびIC製造の両市場が含まれている。
*SEMIは以前の報告で、2017年のシリコン再生ウェーハ市場を前年比18％増の5億1000万ドルとしている。